株式会社テクノロジックアートと株式会社ＣＩＪは、中国オフショア開発を成功に導くためのセミナー、『第二回中国オフショア開発セミナー～成功するためのノウハウがここに～』を共催すると発表した。
株式会社テクノロジックアートと株式会社ＣＩＪは1日、中国オフショア開発を成功に導くためのセミナー、『第二回中国オフショア開発セミナー～成功するためのノウハウがここに～』を共催すると発表した。
中国でオフショア開発をする上でキーポイントとなる、開発方法論、役割分担、品質管理、プロジェクト管理などについて、最新の事例を使いながら成功ノウハウを紹介する。また、最近のオフショア開発のトレンドや、設計書等のドキュメントなど、中国へ発注する側としてのポイントについても解説する。
第二回中国オフショア開発セミナー～成功するためのノウハウがここに～
- 日時
- 会場
- 定員
- 参加費
- 申込
2006年12月5日(火)13:30～17:00(13:00から受付開始)
100名（※定員になり次第締め切り）
無料
CIJ.JPサイトより
詳細は下記Webページを参照のこと。
「第二回 中国オフショア開発セミナー～成功するためのノウハウがここに～」
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CodeZine編集部（コードジンヘンシュウブ）
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